支那でASMLの特許に触れない最新半導体製造技術の特許申請(出願の事?出願番号未調査:)されたとのブルームバーグの記事:
上記記事より引用:
国の通信機器大手、華為技術(ファーウェイ)は国内の半導体協業相手と共同で、先端半導体の製造方法を特許申請した。比較的低い技術で効率的に先端半導体を製造できる手法だという。米国による輸出規制にもかかわらず、中国が半導体製造能力を向上させていく可能性が広がる。
中国国家知識産権局に提出された申請書によると、両社が開発しているのは4倍の密度でパターンを形成する自己整合型クオドルプルパターニング(SAQP)と呼ばれる手法で、高度なリソグラフィー(露光)技術への依存低減につながり得る。オランダのASMLホールディングが保有する最先端の極端紫外線(EUV)露光装置を使わなくても、先端半導体を製造できるようになるという。EUV露光装置はASMLにしか作れないが、輸出規制によって中国に売ることはできない。
22日に開示されたファーウェイの申請書には、SAQPを用いて先端半導体を製造する手法が説明されている。「この特許を採用することで、回路パターンを設計する自由度が高まる」という。
(引用おわり)
支那国内では特許出願は迅速に審査・特許査定される可能性がある(何せ、憲法の上に支那共産党はおわしますので、無論、皮肉ですよ:)。外国出願は出願対象国(現実的にはEPO,USPTO,もしかしてJPO)では国際法に基づく厳格な審査が行われる筈(そもそも外国出願しない可能性も)だし、権利化されるかは審査次第。
技術に色は無いが、特許なら最大20年の寿命(期限)があるから、クンクンランドが主導しているデカップリングも相応の期間(敵が対抗手段でこちらの攻撃を無効化される前に)しか機能しない可能性もある(相手も必死だし)がサプライチェーンと知財は直結する訳でも無い(基本、輸出規制は各国の指針に依存する)からそれも当然、折込済なのだろう。私の様など素人がから騒ぎして大恥かくのは避けましょう:)