支那でASMLの特許に触れない最新半導体製造技術の特許申請（出願の事？出願番号未調査：）されたとのブルームバーグの記事：
上記記事より引用：
国の通信機器大手、華為技術（ファーウェイ）は国内の半導体協業相手と共同で、先端半導体の製造方法を特許申請した。比較的低い技術で効率的に先端半導体を製造できる手法だという。米国による輸出規制にもかかわらず、中国が半導体製造能力を向上させていく可能性が広がる。
中国国家知識産権局に提出された申請書によると、両社が開発しているのは４倍の密度でパターンを形成する自己整合型クオドルプルパターニング（ＳＡＱＰ）と呼ばれる手法で、高度なリソグラフィー（露光）技術への依存低減につながり得る。オランダのＡＳＭＬホールディングが保有する最先端の極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置を使わなくても、先端半導体を製造できるようになるという。ＥＵＶ露光装置はＡＳＭＬにしか作れないが、輸出規制によって中国に売ることはできない。
22日に開示されたファーウェイの申請書には、ＳＡＱＰを用いて先端半導体を製造する手法が説明されている。「この特許を採用することで、回路パターンを設計する自由度が高まる」という。
（引用おわり）
支那国内では特許出願は迅速に審査・特許査定される可能性がある（何せ、憲法の上に支那共産党はおわしますので、無論、皮肉ですよ：）。外国出願は出願対象国（現実的にはEPO,USPTO,もしかしてJPO）では国際法に基づく厳格な審査が行われる筈（そもそも外国出願しない可能性も）だし、権利化されるかは審査次第。
技術に色は無いが、特許なら最大２０年の寿命（期限）があるから、クンクンランドが主導しているデカップリングも相応の期間（敵が対抗手段でこちらの攻撃を無効化される前に）しか機能しない可能性もある（相手も必死だし）がサプライチェーンと知財は直結する訳でも無い（基本、輸出規制は各国の指針に依存する）からそれも当然、折込済なのだろう。私の様など素人がから騒ぎして大恥かくのは避けましょう：）
